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對比TI & 英諾賽科:650V GaN器件開關損耗技術特點

作者:admin   發布時間:2025-03-21 13:21:27   點擊量:

在追求更高效率和更小尺寸的電源解決方案時,德州儀器(TI)和英諾賽科(Innoscience)都提供了超越傳統硅基方案的氮化鎵(GaN)器件。雖然兩者都展現出GaN技術的優越性,但在具體性能特點和適用場景上各有千秋,需要根據實際應用需求進行仔細評估。

 

TI IC.jpg

德州儀器(TI)的GaN器件著重于硬開關性能的優化。這意味著它們在需要頻繁且快速地開啟和關閉開關的電路中表現出色。其優勢主要體現在:

在高頻率下依然能夠保持高效運行,降低能量損耗。

顯著降低了在開關切換時產生的能量損失,提高了整體系統效率。

更快的開關速度允許更高的工作頻率,從而能夠設計出更小巧、功率密度更高的電源轉換器。

鑒于其優異的開關性能和低損耗,TI的GaN器件非常適合應用于需要盡可能減小尺寸和重量,同時保持高功率輸出的應用,例如服務器電源、電動汽車充電樁等。

 

英諾賽科(Innoscience)的GaN器件則側重于開關損耗的優化和高壓應用性能。其優勢在于:

較低的寄生電容可以減少開關過程中的能量損耗,提高效率。

通過優化器件結構和工藝,英諾賽科顯著降低了開關過程中的損耗,特別是在高頻率下表現更加明顯。

在高電壓應用場景下,英諾賽科的GaN器件表現出更高的效率和可靠性,例如在新能源汽車的高壓電池系統中。

英諾賽科不斷探索新的器件結構和制造工藝,以進一步提升GaN器件的性能,使其在高壓、高頻等應用場景中更具競爭力。


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